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中和科技园

区域:北京市-大兴区

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中和科技园依据地块条件,结合实际需求,规划为A、B、C三栋单体建筑,形象和功能各自分开,相互独立,并形成半开敞、半围合的布局。各单体设独立的入口和交通核,均与地下车库相连。A、B、C三栋单体的标准层面积分别为770.76 m2、655.37 m2、1067.61 m2。其中地下车库与首层连通,供停车使用。项目的主要机动车出入口主要设置在地块的西北和东南角,将开发区城市道路与地下车库入口和环建筑的内部路相连。地块的北部为三栋单体共享的外向型绿化景观,幽雅舒适。项目共170个车位。
  中和科技园项目的立面设计造型新颖,运用漫射的PHL装饰的墙面与光亮的玻璃幕墙进行对比,同时在玻璃幕墙上用不规则向上生长的率合结合墙面上不规则的竖条窗,形成强烈的视觉冲击力,体现建筑的标志性和独特性。

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